進化する電子デバイスプロセスを支える高純度特殊ガス
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三フッ化窒素
三フッ化窒素
主な用途
半導体・液晶製造装置用クリーニング剤、ドライエッチング剤
用途分類
特性分類
- 基本情報
概要
半導体素子、液晶素子、太陽電池などの電子デバイス製造に、高純度特殊ガスは不可欠な原料です。この分野で業界をリードする三井化学は、豊富な合成・分析の技術経験を生かし、より高品位の特殊ガスを提供することで、電子デバイスの進化を支えます。
三フッ化窒素は、下関と米国ミシガン州に製造拠点を設置し、日米両拠点からの供給を行っています。“Same Quality from 2 Sites”の活動理念の基に、全世界に拡がる販売拠点を活用したグローバル化を推進しています。
製品に関するお問い合わせ
半導体・光学材料事業部
TEL
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FAX
03-6880-7571