三井ペリクル

世界をリードするフォトマスク用防塵カバー

  • 光学特性
  • クリーン性

概要

三井ペリクルは、フォトリソグラフィーでの各露光波長に対して耐光性のある膜材料を選択し、高い透過率を得られるように膜厚設計したフォトマスク用防塵カバーです。

フォトマスクをクリーンに保ち、半導体の生産性向上に貢献します。さらに、三井ペリクルは経験と技術に基づいたサービスで、次世代フォトリソグラフィー技術に対応していきます。

特性

光学特性

透過率99%以上。原料の前処理とスピンコート技術の組み合わせで、透過率の均一性を確保しています。

クリーン性

厳選した材料により、光劣化による異物化と昇華成分による異物化がありません。また、クラス1のクリーンルーム内で、クリーンロボットシステムを用いることで、高品質な製品を安定して製造しています。

膜寿命

露光光に応じた新素材開発を行い、長寿命を達成しています。

用途

防塵用超薄膜部材(LSI製造工程)

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