ナノインプリント技術国際会議にてフッ素系材料「FROMP™」の開発を発表

2014年10月22日
三井化学株式会社

三井化学株式会社(社長:淡輪 敏)は、10月22日(水)から24日(金)にかけて開催される、第13回ナノインプリント・ナノプリント技術国際会議にて、超高精細なナノインプリントを実現する材料「FROMP™」の開発について発表いたします。

ナノインプリント:ナノサイズのパターンを転写により成形するための型で、高精細化に伴い、半導体や光デバイスなどのへの応用も期待される
発表日時 2014年10月23日(木)16:00-
場所 ANAクラウンプラザホテル京都(京都府京都市中京区)
会議名 第13回ナノインプリント・ナノプリント技術国際会議(略称 NNT2014)
発表内容 ナノインプリント材料に適したフッ素系開発材料FROMP™を紹介します
特徴 ・ 優れた透明性、耐光性 : UV硬化型の材料に用いることが可能になります
・ 易離形性 : 様々な材料からの離形が容易で、幅広い材料の型に用いることができます
・ 硬化時の収縮なし : マザーモールドのパターンを、正確にレプリカモールドへ転写します
・ L&S(ライン&スペース)40nm : パターン精度が保てるサイズで、超高精細を達成


(図1)FROMP™を用いたナノインプリント
(フィルムの中心部分)


(図2)ナノインプリント部分の拡大図
(モールドに刻まれたラインの太さ、間隔は約40nm)

FROMP™は、当社の触媒技術を駆使し、ナノインプリントのレプリカモールドに最適な仕様となるように分子構造を設計しています。
今後も、更なる高機能・高付加価値製品を開発し、皆様にご提案してまいります。

以上

本件に関するお問合せ先

三井化学株式会社 IR・広報部TEL:03-6253-2100

ナノインプリント技術国際会議にてフッ素系材料「FROMP™」の開発を発表 (PDF : 513.3KB)pdfファイルを開く

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