ジシラン

ジシラン

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進化する電子デバイスプロセスを支える高純度特殊ガス

主な用途

低温・高速成膜プロセス用シリコン膜形成用CVDガス

用途分類
  • 基本情報

概要

高純度特殊ガスの分野で業界をリードする三井化学は、豊富な合成・分析の技術経験を生かし、より高品位の特殊ガスを提供することで、電子デバイスの進化を支えます。

ジシランは、より高速に、より低温でのシリコン膜形成に最適なCVDガスです。各種電子デバイスの製造に役立っています。

 

高純度 自然発火性 分解性

特性

自然発火性

空気に触れるだけで発火しますので、厳重な取扱いが必要となります。

分解性

分解性に富み、他の物質と合わせると急激に反応します。

用途

低温・高速成膜プロセス用シリコン膜形成用CVDガス

製品に関するお問い合わせ

工業薬品事業部
TEL03-6253-3715
FAX03-6253-4229