三フッ化窒素

三フッ化窒素

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進化する電子デバイスプロセスを支える高純度特殊ガス

主な用途

半導体・液晶製造装置用クリーニング剤、ドライエッチング剤

用途分類
特性分類

クリーン性 良クリーニング性

  • 基本情報

概要

半導体素子、液晶素子、太陽電池などの電子デバイス製造に、高純度特殊ガスは不可欠な原料です。この分野で業界をリードする三井化学は、豊富な合成・分析の技術経験を生かし、より高品位の特殊ガスを提供することで、電子デバイスの進化を支えます。

三フッ化窒素は、下関と米国ミシガン州に製造拠点を設置し、日米両拠点からの供給を行っています。“Same Quality from 2 Sites”の活動理念の基に、全世界に拡がる販売拠点を活用したグローバル化を推進しています。

特性

クリーン性

高性能なドライクリーニングガスとして、半導体・液晶素子の製造装置の内部を、常に清浄に保つために役立っています。

用途

半導体・液晶製造装置用クリーニング剤、ドライエッチング剤

エッチング/クリーニング例

エッチング/クリーニング例

容器

(例)

容器
360L、430L、470L、
各種大型容器対応が可能です。
容器
お客様のニーズに合わせて
カスタマイズいたします。

製品に関するお問い合わせ

工業薬品事業部
TEL03-6253-3715
FAX03-6253-4229